АО «НИИЭФА»
Акционерное общество
«НИИЭФА им. Д.В. Ефремова»
О компании Контакты Вакансии Новости Противодействие коррупции и хищениям Поставщикам Диссертационный совет Экологическая безопасность Охрана труда Торги имущества ПСР
 

ЭЛЕКТРОДУГОВЫЕ ИСТОЧНИКИ

Электродуговые источники генерируют потоки металлической и углеродной плазмы, в среде которой осуществляется плазмохимический синтез уникальных соединений и осаждение их в качестве функциональных покрытий (антикоррозионных износостойких, термостойких, антифрикционных, защитных, антиэмиссионных, биологически совместимых, декоративных и др.).

Электродуговой источник металлической и углеродной плазмы  Электродуговой источник металлической плазмы с магнитным удержанием дуги на торце катода Многокомпонентный электродуговой  источник металлической плазмы
Электродуговой источник металлической и углеродной плазмы Электродуговой источник металлической плазмы с магнитным удержанием дуги на торце катода Многокомпонентный электродуговой источник металлической плазмы

Электродуговой источник металлической плазмы Электродуговой источник плазмы бора (с катодом из бора)
Электродуговой источник металлической плазмы Электродуговой источник плазмы бора (с катодом из бора)

Электродуговой источник металлической плазмыс неуправляемой дугойс магнитным управлением дугой
Рабочий ток, А 70 -300 25-300
Рабочее напряжение, В 15 -30 20-40
Скорость испарения материала катода, мг/с 2 -20 0,5-20
Запас материала, кг 2 -8 0,1-3

Нанесение покрытий для обеспечения поверхностных свойств материаловТакие свойства поверхности обеспечивают покрытия:
износостойких металлами
антикоррозионных нитридами металлов
термостойких карбидами металлов
защитных оксидами металлов
антиэмиссионных полупроводящими структурами
декоративных алмазоподобными структурами

Публикации:

1. Д.А. Карпов. Плазменные технологии нанесения покрытий, Новые промышленные технологии, 2003, вып. № 1, стр.38-41.

2. D.A. Karpov. Cathodic arc sources and macroparticle filtering, Surface and coatings technology, v.96, 1997, pp.22-33.

Поставки электродуговыx источников плазмы:

Год поставкиЗаказчикГород, страна
1989 Центральный институт физических исследований Венгрия
1990 Центральный институт электронной физики Германия
1992 Физико-технический институт им. Иоффе Россия
1992 Вакуумная техника Дрезден Германия
1994 Объединение "Светлана" Россия
1994, 1999 Научно-исследовательский центр "Юлих" Германия
1995-1999 ISM Technology Inc. США
1997 Научно-исследовательский центр "Россендорф" Германия
1999 Multi-Acr Ltd. Англия
2004 Всекитайская импортно-экспортная компания точного машиностроения Китай
2006-2008 NanoShield Co., Ltd Тайланд

 
© 2004-2016, НИИЭФА им. Д.В.Ефремова, ОИТ. CMS English version Яндекс.Метрика