АО «НИИЭФА»
Акционерное общество
«НИИЭФА им. Д.В. Ефремова»
О компании Контакты Вакансии Новости Противодействие коррупции и хищениям Поставщикам Диссертационный совет Экологическая безопасность Охрана труда Торги имущества
 

ВАКУУМНО-ДУГОВАЯ УСТАНОВКА ВДНУ

Установка предназначена для нанесения функциональных (износостойких, антикоррозионных, термостойких, антифрикционных, антиэмиссионных, защитных и др.) покрытий на крупногабаритные элементы космической техники (трубы, листы, антенны и пр.). Она обеспечивает вакуумную откачку, нагрев и финишную ионную очистку напыляемых изделий, генерацию газовой среды, требуемой для проведения технологических процессов напыления, нанесение покрытий на три вида изделий:

– трубы длиной от 1 м до 3 м, диаметром от 10 мм до 60 мм с максимальной загрузкой 40 штук,

–листы размерами 2м х 1м, с максимальной загрузкой 5 штук,

– антенны диаметром до 2 м.

Технические характеристики ВДНУ 
Вакуумная камера (нержавеющая сталь, водоохлаждаемая):  
внутренний диаметр, мм 2400
внутренняя длина, мм 4400
Вакуумная откачка (на основе криосорбционных насосов)  
Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ 5x10-4
время откачки до предельного остаточного давления, час 1
Внутрикамерный нагрев изделий (с возможностью регулировки):  
максимальная мощность, кВт 55
максимальная температура нагрева изделий, °С 400
Система подачи технологических газов:  
(4 канала), см3/мин 0-1000
Механизмы внутрикамерного перемещения изделий:  
держатель для труб (длиной до 3 м, диаметром до 60мм), обеспечивающий их планетарное внутрикамерное перемещение,  
держатель для листов (длиной до 2 м, шириной до 1 м) обеспечивающий их внутрикамерное вращение,  
держатель для антенны (диаметром до 2 м) обеспечивающий ее внутрикамерное вращение.  
Система источников ионной очистки изделий: 11 источников ионной очистки с возможностью регулировки ионного тока и ускоряющего напряжения  
ток ионного пучка, мА 150 ± 30
рабочее ускоряющее напряжение, кВ 1 - 4
Система электродуговых источников металлической плазмы (11 электродуговых источников с возможностью регулировкитока дуги и распределения плазменного потока):  
рабочий ток, А 40 - 130
рабочее напряжение, В 25 - 35
Источник импульсного напряжения смещения, подаваемого на изделие:  
напряжение импульса, В 0 - 1000
ток импульса, А 0 - 70
частота следования импульсов, Гц 25 - 25000
коэффициент заполнения импульса, % 5 - 50
Система общего электропитания и управления установкой:  
программно-логическое управление вакуумной  
откачкой, работой ионных и дуговых источников,  
возможность компьютерного управления установкой.  
максимальная потребляемая мощность, кВт 150
максимальный расход воды, м3 /час 6,2

Публикации:

1. В.В. Иванов, Д.А. Карпов, В.А. Крылов, В.М. Лисичкин, В.Я. Моисеев, С.Г. Саксаганский, А.А. Филиппов, Ren Ni, Ma Zhanji, Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ (разработка, изготовление, эксперименты). Вопросы атомной науки и техники, серия «Электрофизическая аппаратура», СПб.: НПО «Профессионал», 2005, Вып.3(29), стр. 116-125.

Поставки:

Название продуктаГод поставкиЗаказчикстрана
Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ 2004 Всекитайская импортно-экспортная компания точного машиностроения Китай

 
© 2004-2016, НИИЭФА им. Д.В.Ефремова, ОИТ. CMS English version Яндекс.Метрика